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Les dépôts physiques PVD et CVD pour applications mécaniques

Ref - CS10 NOUVEAU

Objectifs opérationnels

Procédés de dépôts de couches minces : les 10 règles d'or pour les dépôts par les technologies PVD et CVD

Présentation
Programme
Sessions

Limoges
- Dates: nous consulter
  - Prix : nous consulter
  - Partie pratique effectuée au CITRA de Limoges

Durée : 14 heures

Objectifs pédagogiques

Identifier et comprendre les différents procédés de dépôts de couches minces par les technologies PVD et CVD, paramètres clés des procédés et caractérisations associées

Méthodes pédagogiques

Quiz/QCM et exercices

Moyens d'évaluation

Quiz / QCM

Profil du formateur

Frédéric Meunier, ingénieur expert en traitement de surface

Personnel concerné

Cadre /technicien des secteurs industriels

Pré-requis

Connaissances de base en physique et mécanique

Fondamentaux des techniques du vide
Fondamentaux des plasmas basse pression
Techniques de dépôts PVD et CVD pour pièces mécaniques (Ion Plating, Pulvérisation Cathodique,
Arc, canon à électrons, CVD assistée plasma ... )
Procédés adjacents pré et post déposition couches minces (nettoyage, dégazage, finition de surface pré & post dépôt ... ); environnements de production et niveau de propreté requis
Moyens de caractérisation adaptés aux couches minces industrielles (épaisseur, état de surface, nana-dureté, adhérence ...)
Défectologie : détection & classification des défauts
Tribologie : principaux mécanismes associés
Mise en pratique à travers la réalisation de dépôt PVD/CVD au sein du CITRA ; chargement, conduite du réacteur avec un technicien tuteur pour identification et compréhension des différentes étapes typique (mise sous vide, dégazage, «etching», chauffage, dépôt, ... ); caractérisation basiques épaisseur, adhérence
Mise en pratique de la caractérisation basiques des couches (épaisseur, adhérence, tribologie ...)
Tribologie: notion théorique des principaux mécanismes associées aux couches minces
Synthèse: Les 10 règles d'or pour les dépôts PVD et CVD