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Le b.a.-ba des traitements de surface PVD, CVD & la projection thermique

Ref - BA04 NOUVEAU

Objectifs opérationnels

Présentation
Programme
Sessions

Paris
- Dates: nous consulter
  - Prix : nous consulter

Durée : 4 heures

Objectifs pédagogiques

Reconnaître les principes des process des dépôts par voie sèche : PVD (Physical Vapor Deposition, CVD (Chemical Vapor Deposition) et dépôts par projection thermique
Identifier les potentiels et les limitations de ce type de dépôts par rapport aux dépôts par voie humide classiques
Connaître les applications majoritaires de ces traitements au travers d'exemples industriels

Méthodes pédagogiques

Quiz/QCM et exercices

Moyens d'évaluation

Quiz ou QCM

Profil du formateur

Frédéric Meunier, ingénieur expert en dépôts par voie sèche

Personnel concerné

Tous niveaux ; tous secteurs d’activité

Pré-requis

Aucun prérequis technique

Les dépôts PVD
- Introduction aux potentialités de la physique du vide
- l'.absence d'oxydation
- La disparition des contraintes de l'électrochimie
- Le mode d'extraction des atomes à déposer et e libre parcours moyen sous vide
- La capacité au dopage (Carbone, Azote)
- Les principes d'un dépôt PVD ou dépôt sous vide
- Les procédés par évaporation sous vide
- Les procédés par pulvérisation cathodique
- Les procédés plasma arc
Les dépôts CVD
- Le principe des dépôts CVD
- Les procédés CVD atmosphériques
- Les procédés CVD basse pression et/ou assistés plasma
Les dépôts par projection thermique
- Les principes de la projection thermique
- Les procédés classiques
- Les procédés assistés par plasma
4. Potentialités et limites
- L'infinité des combinaisons possibles
- Les limites du PVD
- Les limites du CVD et des projections thermiques